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脈衝和直流(liú)電源係統

脈衝和直(zhí)流電源係統

利用 Advanced Energy 全麵(miàn)的直流(liú)和脈衝直流套件推(tuī)進(jìn)等離子工藝創新,在提高沉積(jī)率、改善薄膜平整度和堆積密度的(de)同時(shí)最大(dà)限度減少電弧。

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經工藝驗證(zhèng)的脈衝直流電用於薄介電膜的單磁控管反應濺射

Pinnacle III+脈衝和直(zhí)流電源係統

Pinnacle Plus+發生器以脈衝配置提供直流電,從而實現極其均勻、高質(zhì)量的介電膜的(de)反應濺射。 反向脈衝期間的電荷清除可防止(zhǐ)電弧發(fā)展 通(tōng)過頻率和占空比控製可調節過程 緊湊(còu)型風冷設計,可擴展至主/衛星配置

特點(diǎn)

規格

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